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期刊论文 Microelectron. Eng. 2002 61-62 139 144 Segers, M; Bougeard, M; Caprin, E; Ceccotti, T; Normand, D; Schmidt, M; Sublemontier, O
期刊论文 Microelectron. Eng. 2001 57-58 87 92 Lebert, R; Aschke, L; Bergmann, K; Dusterer, S; Gabel, K; Hoffmann, D; Loosen, P; Neff, W; Nickles, P; Rosier, O; Poprawe, R; Rudolph, D; Sandner, W; Sauerbrey, R; Schmahl, G; Schwoerer, H; Stiehl, H; Will, I; Ziener, C
期刊论文 Microelectron. Eng. 2000 53 1-4 681 684 Banine, VY; Benschop, JPH; Werij, HGC
期刊论文 Microelectron. Eng. 1996 30 1-4 287 290 Ogawa, T; Oizumi, H; Ito, M; Saitou, N
期刊论文 Microelectron. Eng. 2002 61-62 203 211 Hue, J; Quesnel, E; Muffato, V; Pelle, C; Granier, D; Favier, S; Besson, P
期刊论文 Microelectron. Eng. 1999 46 1-4 19 22 Stulen, RH
 
Development of a laser-produced plasma source at 13.5 nm for the French extreme ultraviolet lithography test bench
作者: Segers, M; Bougeard, M; Caprin, E; Ceccotti, T; Normand, D; Schmidt, M; Sublemontier, O
来源出版物: Microelectron. Eng.
出版年:2002      卷: 61-62      页: 139--144
文献类型:    期刊论文
Preliminary results from key experiments on sources for EUV lithography
作者: Lebert, R; Aschke, L; Bergmann, K; Dusterer, S; Gabel, K; Hoffmann, D; Loosen, P; Neff, W; Nickles, P; Rosier, O; Poprawe, R; Rudolph, D; Sandner, W; Sauerbrey, R; Schmahl, G; Schwoerer, H; Stiehl, H; Will, I; Ziener, C
来源出版物: Microelectron. Eng.
出版年:2001      卷: 57-58      页: 87--92
文献类型:    期刊论文
Comparison of extreme ultraviolet sources for lithography applications
作者: Banine, VY; Benschop, JPH; Werij, HGC
来源出版物: Microelectron. Eng.
出版年:2000      卷: 53      期: 1-4      页: 681--684
文献类型:    期刊论文
Sensitivity-enhanced dry development process for VUV and EUV lithography using graft-polymerization
作者: Ogawa, T; Oizumi, H; Ito, M; Saitou, N
来源出版物: Microelectron. Eng.
出版年:1996      卷: 30      期: 1-4      页: 287--290
文献类型:    期刊论文
Reduction of defect density on blanks: application to the extreme ultraviolet lithography
作者: Hue, J; Quesnel, E; Muffato, V; Pelle, C; Granier, D; Favier, S; Besson, P
来源出版物: Microelectron. Eng.
出版年:2002      卷: 61-62      页: 203--211
文献类型:    期刊论文
Progress in the development of extreme ultraviolet lithography exposure systems
作者: Stulen, RH
来源出版物: Microelectron. Eng.
出版年:1999      卷: 46      期: 1-4      页: 19--22
文献类型:    期刊论文
出版年
2002(2)
2001(1)
2000(1)
1999(1)
1996(1)
 
所属专题
EUV(6)
 
来源期刊
Microelectron. Eng.(6)
 
文献类型
期刊论文(6)
 
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