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期刊论文
Microelectron. Eng.
2002
61-62
139
144
Segers, M; Bougeard, M; Caprin, E; Ceccotti, T; Normand, D; Schmidt, M; Sublemontier, O
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Development of a laser-produced plasma source at 13.5 nm for the French extreme ultraviolet lithography test bench
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作者：
Segers, M; Bougeard, M; Caprin, E; Ceccotti, T; Normand, D; Schmidt, M; Sublemontier, O |
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来源出版物：
Microelectron. Eng. |
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出版年：2002
卷：
61-62
页：
139--144 |
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文献类型:
期刊论文 |
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期刊论文
Microelectron. Eng.
2001
57-58
87
92
Lebert, R; Aschke, L; Bergmann, K; Dusterer, S; Gabel, K; Hoffmann, D; Loosen, P; Neff, W; Nickles, P; Rosier, O; Poprawe, R; Rudolph, D; Sandner, W; Sauerbrey, R; Schmahl, G; Schwoerer, H; Stiehl, H; Will, I; Ziener, C
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Preliminary results from key experiments on sources for EUV lithography
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作者：
Lebert, R; Aschke, L; Bergmann, K; Dusterer, S; Gabel, K; Hoffmann, D; Loosen, P; Neff, W; Nickles, P; Rosier, O; Poprawe, R; Rudolph, D; Sandner, W; Sauerbrey, R; Schmahl, G; Schwoerer, H; Stiehl, H; Will, I; Ziener, C |
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来源出版物：
Microelectron. Eng. |
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出版年：2001
卷：
57-58
页：
87--92 |
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文献类型:
期刊论文 |
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期刊论文
Microelectron. Eng.
2000
53
1-4
681
684
Banine, VY; Benschop, JPH; Werij, HGC
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Comparison of extreme ultraviolet sources for lithography applications
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作者：
Banine, VY; Benschop, JPH; Werij, HGC |
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来源出版物：
Microelectron. Eng. |
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出版年：2000
卷：
53
期：
1-4
页：
681--684 |
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文献类型:
期刊论文 |
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期刊论文
Microelectron. Eng.
1996
30
1-4
287
290
Ogawa, T; Oizumi, H; Ito, M; Saitou, N
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Sensitivity-enhanced dry development process for VUV and EUV lithography using graft-polymerization
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作者：
Ogawa, T; Oizumi, H; Ito, M; Saitou, N |
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来源出版物：
Microelectron. Eng. |
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出版年：1996
卷：
30
期：
1-4
页：
287--290 |
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文献类型:
期刊论文 |
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期刊论文
Microelectron. Eng.
2002
61-62
203
211
Hue, J; Quesnel, E; Muffato, V; Pelle, C; Granier, D; Favier, S; Besson, P
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Reduction of defect density on blanks: application to the extreme ultraviolet lithography
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作者：
Hue, J; Quesnel, E; Muffato, V; Pelle, C; Granier, D; Favier, S; Besson, P |
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来源出版物：
Microelectron. Eng. |
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出版年：2002
卷：
61-62
页：
203--211 |
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文献类型:
期刊论文 |
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期刊论文
Microelectron. Eng.
1999
46
1-4
19
22
Stulen, RH
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Progress in the development of extreme ultraviolet lithography exposure systems
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作者：
Stulen, RH |
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来源出版物：
Microelectron. Eng. |
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出版年：1999
卷：
46
期：
1-4
页：
19--22 |
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文献类型:
期刊论文 |
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